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EUVとは、Extreme Ultravioletの略で、光の波長が非常に小さい極端紫外線(波長13.5mm)のこと。最先端の半導体ロジックやDRAMなどの微細化や高密度化、検査などに用いられます。
2019年時点における次世代EUV露光装置のメーカーは、オランダの半導体製造装置メーカー「ASMLホールディングス」一社のみです。
上場企業一覧
レーザーテック(6920)
平均年収1,680万8,200円 ( 平均年齢40.1歳 平均勤続年数8.3年 )
2025年6月通期 連結 日本基準
次世代露光技術であるEUVリソグラフィの実用化にあわせて、EUVマスクブランクスの品質管理を行える検査装置を開発し、高シェアを占める。想定を上回るペースで受注が拡大している。レーザーテックは、「世の中にないものをつくり、世の中のためになるものをつくる」ことを経営の基本とし、マスク検査の分野で長い歴史と経験を持つ会社です。
JSR(4185)
平均年収829万円 ( 平均年齢40.2歳 平均勤続年数13.7年 )
2023年3月通期 連結 国際会計基準
JSRとimecは、EUVリソグラフィ用フォトレジスト製造で合弁会社を設立
住友化学(4005)
平均年収 未公開 ( )
2025年9月通期 連結 国際会計基準
最先端プロセス向け半導体フォトレジスト(EUVなど)を開発している。
日産化学(4021)
平均年収 未公開 ( )
2025年9月通期 連結 日本基準
化学品事業、機能性材料事業(ディスプレイ材料、半導体材料など)、農業化学品事業(除草剤・殺虫剤・殺菌剤等)、医薬品事業を展開する化学メーカー。EUV材料分野を将来の成長エンジンに掲げる(2020年第3四半期決算説明資料)
東京応化工業(4186)
平均年収 未公開 ( )
2025年6月通期 連結 日本基準
半導体フォトレジスト大手。EUV向けやKrF向けのレジストで売り上げの伸びが期待されている。
東洋合成工業(4970)
平均年収 未公開 ( )
2025年9月通期 個別 日本基準
液晶ディスプレイ、有機ELディスプレイ、半導体デバイス、蓄電デバイスの製造に欠かせないフォトレジスト用感光性材料分野で世界トップクラスのメーカー。次世代露光技術であるEUVリソグラフィの実用化にあわせて、EUV用の感光材(レジスト)材料の開発に取り組んでいる。
日本電子(6951)
平均年収 未公開 ( )
2025年9月通期 連結 日本基準
EUVに対応したマルチビームマスク描画装置をオーストリアのIMSナノファブリケーション社共同開発。
HOYA(7741)
平均年収 未公開 ( )
2025年9月通期 連結 国際会計基準
光学ガラスの製造に強みを持つ会社。EUV露光向けマスクブランクスを手掛けている。
注1 親会社の株主に帰属する利益 注2 株主資本
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※数値は、有価証券報告書または四半期報告書のデータを使用しています。
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